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  • GJP15.4B四轴高速球面磨抛机

    GJP15.4B四轴高速球面磨抛机

    用于光学玻璃、石英玻璃、晶体材料、电子元件等材料的球面、平面的研磨和抛光。以及各种高精度平面、凹凸球面模具的研磨抛光。 主 要 技 术 参 数加工镜盘直径Φ≤150mm曲率半径R≥10mm主轴转速1700转/分(变频调速)0.55kw*4摆架转次45次/分0.4kw*4主轴螺纹M22(定位圆Φ24)主轴接头M22(定位圆Φ24)(可据客户需求订制)摆   幅0~60m...

  • GXZ15.2B/30.2B两轴斜轴球面精磨抛

    GXZ15.2B/30.2B两轴斜轴球面精磨抛

            用于球面镜的研磨和抛光,三角架应用电控气动装置,摆架为直线往复运动,主轴内外喷液系统。主轴可任意倾斜30°倾角。主 要 技 术 参 数   GXZ15.2B GXZ30.2B   GXZ15.2B GXZ30.2B 加工范围 &...

  • GXZ15.2A/30.2A两轴斜轴球面精磨

    GXZ15.2A/30.2A两轴斜轴球面精磨

          用于球面镜的研磨和抛光,配重加压,摆架为直线往复运动,主轴可任意倾斜30°倾角。主 要 技 术 参 数   GXZ15.2A GXZ30.2A   GXZ15.2A GXZ30.2A 加工范围 ≤Φ150mm ...

  • GXZ30.2C两轴斜轴弧摆球面精磨抛

    GXZ30.2C两轴斜轴弧摆球面精磨抛

          用于球面镜的研磨和抛光,同时也适用于较大直径的凹凸透镜的精磨和抛光。三角架应用电控气动装置,主轴可任意倾斜 30°倾角。摆架为弧摆运动,弧摆角度为±50°                   ...

  • GJP15.4A四轴高速精磨抛光机

    GJP15.4A四轴高速精磨抛光机

    用于光学玻璃、石英玻璃、晶体材料、电子元件等材料的球面、平面的研磨和抛光。以及各种高精度平面、凹凸球面模具的研磨抛光。                                       &n...

  • GJP38.2A/50.2A两轴高速精磨抛光机

    GJP38.2A/50.2A两轴高速精磨抛光机

           GJP38.2A/50.2A两轴高速精磨抛光机用于光学玻璃、石英、晶体、电子元件等零件平面、球面的研磨和抛光。平摆运动,主轴、摆轴,转速、压力、时间可根据加工零件的需要单独分开调整。主 要 技 术 参 数   GJP38.2A GJP50.2A   GJP38.2A ...

  • GJP35.4A四轴高速精磨抛光机

    GJP35.4A四轴高速精磨抛光机

         用于光学玻璃、石英、晶体、电子元件等零件平面、球面的研磨和抛光。平摆运动,主轴、摆轴,转速、压力、时间可根据加工零件的需要单独分开调整。                                ...

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